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Towards a Better Understanding of Photo-excited Spin Alignment Processes Using Silole Diradicals.
Article de revue   Open Access   Avec comité de lecture

Towards a Better Understanding of Photo-excited Spin Alignment Processes Using Silole Diradicals.

Nans Roques, Philippe Gerbier, Yoshio Teki, Sylvie Choua, Petra Lesniakova, Jean-Pascal Sutter, Philippe Guionneau et Christian Guérin
New Journal of Chemistry, Vol.30(9), pp.1319-1326
2006

Résumé

Silole Molecular magnetism Nitroxide radical TRESR

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