- Titre
- The Use of Electron-Beam Lithography for Localized Micro-Beam Irradiations
- Créateurs - sans rôle
- Y. Gonzalez-Velo - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESJ. Boch - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESN. J.-H. Roche - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESC. Deneau - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESJ.-R. Vaillé - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESL. Dusseau - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESFrédéric Saigné - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESJ. Mekki - Institut d'Électronique et des SystèmesF. Pichot - Université de Montpellier, Institut Charles Gerhardt Montpellier - ICGMS. Perez - Centre de Recherches sur les Macromolécules VégétalesE. Lorfèvre - Centre National d'Études SpatialesR. D. Schrimpf - Vanderbilt University
- Détails de publication
- IEEE Transactions on Nuclear Science, Vol.58(3), pp.1104 - 1111
- Identifiants
- 99150631409311
- Unité académique
- Institut Charles Gerhardt Montpellier - ICGM; Institut d'Electronique et des Systèmes - IES
- Langue
- English
- Type de ressource
- Journal article
- Champs locaux
- hal-01632651
Article de revue
The Use of Electron-Beam Lithography for Localized Micro-Beam Irradiations
IEEE Transactions on Nuclear Science, Vol.58(3), pp.1104 - 1111
06/2011
Indicateurs
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