- Titre
- "Porosity and structure evolution of a SiOCH low k material during post-etch cleaning process"
- Créateurs - sans rôle
- L. Broussous - STMicroelectronicsW. Puyrenier - STMicroelectronicsD. Rebiscoul - CEA GrenobleV. Rouessac - Université de Montpellier, Institut Européen des Membranes - IEMA. Ayral - Université de Montpellier, Institut Européen des Membranes - IEM
- Détails de publication
- Microelectronic Engineering, Vol.84, pp.2600-2605
- Identifiants
- 99152113709311
- Unité académique
- Institut Européen des Membranes - IEM
- Langue
- English
- Type de ressource
- Journal article
- Champs locaux
- hal-00202919
Article de revue
"Porosity and structure evolution of a SiOCH low k material during post-etch cleaning process"
Microelectronic Engineering, Vol.84, pp.2600-2605
2007
Indicateurs
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