- Titre
- Phosphorous diffusion through silicon nitride thin film for selective emitter application
- Créateurs - sans rôle
- Laurent Crampette - Université de MontpellierGilles Poulain - Institut National des Sciences Appliquées de LyonYvan Cuminal - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESAlain Foucaran - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESYvon PellegrinBachir Semmache
- Détails de publication
- Physica Status Solidi C: Current Topics in Solid State Physics, Vol.9(10-11), pp.2131 - 2133
- Identifiants
- 99152244709311
- Unité académique
- Institut d'Electronique et des Systèmes - IES
- Langue
- English
- Type de ressource
- Journal article
- Champs locaux
- hal-01791393
Article de revue
Phosphorous diffusion through silicon nitride thin film for selective emitter application
Physica Status Solidi C: Current Topics in Solid State Physics, Vol.9(10-11), pp.2131 - 2133
10/2012
Indicateurs
1 Consultations de la notice