New techniques to characterize properties of advanced dielectric barriers for sub-65 nm technology node

Article de revue

Avec comité de lecture

J. Vitiello, V. Ducote, A. Farcy, Lg Gosset, Y. Le Friec, M. Hopstaken, Sophie Jullian, M. Cordeau, C. Ailhas, L.L. Chapelon, …

Microelectronic engineering, pp.83 Issue: 11-12 (2006) 2130-2135

2006

Indicateurs

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Titre: New techniques to characterize properties of advanced dielectric barriers for sub-65 nm technology node
Créateurs - sans rôle: J. Vitiello - Laboratoire des technologies de la microélectronique
V. Ducote
A. Farcy
Lg Gosset
Y. Le Friec
M. Hopstaken
Sophie Jullian
M. Cordeau
C. Ailhas
L.L. Chapelon
Damien Barbier
M. Veillerot
A. Danel
J. Torres
Détails de publication: Microelectronic engineering, pp.83 Issue: 11-12 (2006) 2130-2135
Éditeur: Elsevier
Identifiants: 99147502809311
Unité académique: Laboratoire Charles Coulomb - L2C
Langue: English
Type de ressource: Journal article