Abstract
Metallic thin films of the single-component, neutral, molecular solid Ni(tmdt)2 have been prepared by electrocrystallization on passivated silicon substrates. Metallicity is achieved down to 6 K despite the polycrystalline morphology.
- Title
- Metallic Polycrystalline Thin Films of the Single-Component Neutral Molecular Solid Ni(tmdt)2
- Creators - without role
- Isabelle Malfant - Centre Interuniversitaire de Recherche et d’Ingénierie des MatériauxKlauss Rivasseau - Universitat Autònoma de BarcelonaJordi Fraxedas - Centre Interuniversitaire de Recherche et d’Ingénierie des MatériauxC. Faulmann - Laboratoire de Chimie de CoordinationDominique de Caro - Laboratoire de Chimie de CoordinationLydie Valade - École Nationale Supérieure de Chimie de MontpellierLakhemici Kaboub - Université de Montpellier, Institut Charles Gerhardt Montpellier - ICGMJean-Marc Fabre - Université de Montpellier, Institut Charles Gerhardt Montpellier - ICGMFrancois Senocq - Universitat Autònoma de Barcelona
- Publication Details
- Journal of the American Chemical Society, Vol.128(17), pp.5612-5613
- Identifiers
- 9934766109311
- Academic Unit
- Institut Charles Gerhardt Montpellier - ICGM
- Language
- English
- Resource Type
- Journal article
- Local Fields
- hal-00182196