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Article de revue
(Invited) Recent Advancements and Emerging Applications in Atomic Layer Deposition (ALD) on High-Porosity Materials
Mikhael Bechelany
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Meeting abstracts (Electrochemical Society), Vol.MA2024-02(30), pp.2236-2236
22/11/2024
DOI:
https://doi.org/10.1149/MA2024-02302236mtgabs
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Titre
(Invited) Recent Advancements and Emerging Applications in Atomic Layer Deposition (ALD) on High-Porosity Materials
Créateurs - sans rôle
Mikhael Bechelany - European Institute of Membranes (IEM), CNRS
Détails de publication
Meeting abstracts (Electrochemical Society), Vol.MA2024-02(30), pp.2236-2236
Éditeur
The Electrochemical Society, Inc
Nombre de pages
1
Identifiants
99162719209311
Unité académique
Institut Européen des Membranes - IEM
Langue
English
Type de ressource
Journal article
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