Influence of Deposit Thickness on the Microstructure and Surface Roughness of Silicon Films Deposited from Silane

Article de revue

Avec comité de lecture

E. Scheid, D. Cot, J.P. Couderc, L. Vasquez, B. Legros-de Mauduit, A. Vilà, A. Vander Lee, Jean Durand, V. Paillard, B. Caussat, …

Solid state phenomena, Vol.67-68, pp.125-130

01/01/1999

Résumé

Deposition Mechanism

Low Pressure Chemical Vapour Deposition

Silicon

Microstructure

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Titre: Influence of Deposit Thickness on the Microstructure and Surface Roughness of Silicon Films Deposited from Silane
Créateurs - sans rôle: E. Scheid - LAAS : UPR CNRS
D. Cot - :
J.P. Couderc - :
L. Vasquez - :
B. Legros-de Mauduit - CEMES : UPR CNRS 8011, BP 4347
A. Vilà - Universitat de Barcelona : Enginyeria i Materials Electrònics, Department d'Electrònica
A. Vander Lee - :
Jean Durand - ENSCM, (URA 1312 CNRS) : Lab Des Materiaux et Procedex
V. Paillard - CEMES : UPR CNRS 8011, BP 4347
B. Caussat - LGC, UMR CNRS 5503
A. Figueras - Institut de Ciencia de Materials de Barcelona : CSIC
J.R. Morante - Universitat de Barcelona : Enginyeria i Materials Electrònics, Department d'Electrònica
Détails de publication: Solid state phenomena, Vol.67-68, pp.125-130
Éditeur: Trans Tech Publications Ltd
Nombre de pages: 6
Identifiants: 99147482509311
Unité académique: Laboratoire Bioingénierie et Nanosciences - LBN
Langue: English
Type de ressource: Journal article