- Title
- Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition
- Creators - without role
- Matthieu J. Lépinay - Université de Montpellier, Institut Européen des Membranes - IEMDaniel Lee - CEA GrenobleRiccardo Scarazzini - Institut polytechnique de GrenobleMichel Bardet - Institut Nanosciences et CryogénieMarc Veillerot - Institut polytechnique de GrenobleLucile Broussous - STMicroelectronicsChristophe Licitra - Institut polytechnique de GrenobleVincent Jousseaume - Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies AlternativesFrançois Bertin - Université Grenoble AlpesVincent R. Rouessac - Université de Montpellier, Institut Européen des Membranes - IEMAndré Ayral - Université de Montpellier, Institut Européen des Membranes - IEM
- Publication Details
- Microporous and Mesoporous Materials, Vol.228, pp.297 - 304
- Identifiers
- 9944214309311
- Academic Unit
- Institut Européen des Membranes - IEM
- Language
- English
- Resource Type
- Journal article
- Local Fields
- hal-01681533
Journal article
Impact of plasma reactive ion etching on low dielectric constant porous organosilicate films' microstructure and chemical composition
Microporous and Mesoporous Materials, Vol.228, pp.297 - 304
07/2016
Metrics
1 Record Views