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Etude de diodes Schottky réalisées sous ultra-vide par dépôt d'aluminium ou d'argent sur GaP type N clivé
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Etude de diodes Schottky réalisées sous ultra-vide par dépôt d'aluminium ou d'argent sur GaP type N clivé

M. Benkacem, M. Dumas, J.-M. Palau and L. Lassabatère
Revue de Physique Appliquée, Vol.24(1), pp.45-50
1989

Abstract

evaporation Schottky diodes ultra high vacuum cleaved 110 surfaces Schottky barrier ideality factor buried interface states GaP Al GaP Ag GaP aluminium gallium compounds III V semiconductors Schottky effect semiconductor metal boundaries silver vacuum deposited coatings semiconductor annealing N type GaP
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