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Etude du comportement de la charge d'espace dans les structures MOS. Vers une analyse du champ électrique interne par la méthode de l'onde thermique.
Dissertation   Open access

Etude du comportement de la charge d'espace dans les structures MOS. Vers une analyse du champ électrique interne par la méthode de l'onde thermique.

Olivier Fruchier
Doctoral, Information, Structures, Systèmes
01/12/2006

Abstract

Oxides Reliability Space charges Thermal Step Method Threshold voltage Flat-band voltage Insulators MOS Isolants Oxydes Fiabilité Charges d'espace Méthode de l'onde thermique Tension de seuil Tension de bandes-plates MOS.
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