- Titre
- Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections"
- Créateurs - sans rôle
- L. FavennecV. JousseaumeV. Rouessac - Université de Montpellier, Institut Européen des Membranes - IEMJ. Durand - Université de Montpellier, Institut Européen des Membranes - IEMG. Passemard
- Colloque
- 15th International Colloquium on Plasma Processes - June 5-9, 2005 (Autrans, France, 2005)
- Identifiants
- 9946444309311
- Unité académique
- Institut Européen des Membranes - IEM
- Langue
- English
- Type de ressource
- Conference proceeding
- Champs locaux
- hal-00083110
Acte de colloque
Oral : "PECVD low k thin film as dielectric barrier for advanced microelectronic inter-connections"
15th International Colloquium on Plasma Processes - June 5-9, 2005 (Autrans, France, 2005)
2005
Indicateurs
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