Multi-scale modelling and experimental analysis of ALD alumina: interplay of process dynamics, chemistry and interfacial phenomena

Acte de colloque

Giorgos Gakis, Hugues Vergnes, Emmanuel Scheid, Constantin Vahlas, Andreas G. Boudouvis et Brigitte Caussat

MRS Material Research Society (Boston (Massachusetts), United States, 12/2019–12/2019)

Résumé

ALD - Atomic layer deposition

Alumina

Thin films

CFD Computational Fluid Dynamics

Surface mechanisms

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Titre: Multi-scale modelling and experimental analysis of ALD alumina: interplay of process dynamics, chemistry and interfacial phenomena
Créateurs - sans rôle: Giorgos Gakis - Laboratoire de Génie Chimique
Hugues Vergnes - Laboratoire de Génie Chimique
Emmanuel Scheid - Équipe Matériaux et Procédés pour la Nanoélectronique
Constantin Vahlas - Centre Interuniversitaire de Recherche et d’Ingénierie des Matériaux
Andreas G. Boudouvis - National Technical University of Athens
Brigitte Caussat - Laboratoire de Génie Chimique
Colloque: MRS Material Research Society (Boston (Massachusetts), United States, 12/2019–12/2019)
Identifiants: 9934920109311
Unité académique: Université de Montpellier
Langue: English
Type de ressource: Conference proceeding
Champs locaux: hal-04752270