- Titre
- Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Ar/Cl2/CH4 Plasma Chemistry
- Créateurs - sans rôle
- Jean-Pierre Landesman - Institut des Matériaux Jean RouxelDaniel T. Cassidy - McMaster UniversityMarc Fouchier - Laboratoire des Technologies de la MicroélectroniqueErwine Pargon - Laboratoire des Technologies de la MicroélectroniqueChristophe Levallois - Fonctions Optiques pour les Technologies de l’informationMerwan Mokhtari - Institut de Physique de RennesLaurène Youssef - Université de Montpellier, Institut Européen des Membranes - IEMJuan Jiménez - Illinois Institute of TechnologyAlfredo Torres - Universidad de Valladolid
- Colloque
- 11th International Workshop on Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM 2019) (Grenoble, France, 20/05/2019)
- Identifiants
- 99151986109311
- Unité académique
- Institut Européen des Membranes - IEM
- Langue
- English
- Type de ressource
- Conference proceeding
- Champs locaux
- hal-02324800
Acte de colloque
Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Ar/Cl2/CH4 Plasma Chemistry
11th International Workshop on Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM 2019) (Grenoble, France, 20/05/2019)
Indicateurs
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