Low Current Application Dedicated Process Characterization Method

Acte de colloque

Wenceslas Rahajandraibe, Christian Dufaza, Daniel Auvergne, Bruno Cialdella, Bernard Majoux et Vivek Chowdhury

ICMTS'02: International Conference on Microelectronic Test Structures, (15), pp.41-44

ICMTS'02: International Conference on Microelectronic Test Structures (Cork, Ireland)

2002

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Titre: Low Current Application Dedicated Process Characterization Method
Créateurs - sans rôle: Wenceslas Rahajandraibe - Université de Montpellier, Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier - LIRMM
Christian Dufaza - Université de Montpellier, Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier - LIRMM
Daniel Auvergne - Université de Montpellier, Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier - LIRMM
Bruno Cialdella
Bernard Majoux
Vivek Chowdhury
Détails de publication: ICMTS'02: International Conference on Microelectronic Test Structures, (15), pp.41-44
Colloque: ICMTS'02: International Conference on Microelectronic Test Structures (Cork, Ireland)
Identifiants: 99150692809311
Unité académique: Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier - LIRMM
Langue: English
Type de ressource: Conference proceeding
Champs locaux: lirmm-00268523