- Titre
- First evidence of dielectric loss effects with ultra low-k materials and impact on interconnect propagation performance
- Créateurs - sans rôle
- M. GallitreB. BlampeyB. Fléchet - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et PhotoniqueA. Farcy - STMicroelectronicsV. ArnalC. Bermond - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et PhotoniqueT. Lacrevaz - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et PhotoniqueV. SbugneraK. HamioudM. Aimadeddine - Science et Ingénierie des Matériaux et ProcédésH. ChaabouniJ. Torres - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IES
- Colloque
- Materials for Advanced Metallization Conf (-, France, 02/03/2008–05/03/2008)
- Identifiants
- 9947646809311
- Unité académique
- Institut d'Electronique et des Systèmes - IES
- Langue
- English
- Type de ressource
- Conference proceeding
- Champs locaux
- hal-00397857
Acte de colloque
First evidence of dielectric loss effects with ultra low-k materials and impact on interconnect propagation performance
Materials for Advanced Metallization Conf (-, France, 02/03/2008–05/03/2008)
03/2008
Indicateurs
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