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Estimation de températures de surface de substrat dans un procédé de Dépôt Chimique en phase Vapeur Assisté Plasma (PACVD)
Acte de colloque   Open Access

Estimation de températures de surface de substrat dans un procédé de Dépôt Chimique en phase Vapeur Assisté Plasma (PACVD)

Sébastien Rouquette, Laurent Autrique, Charles Chaussavoine et Laurent Thomas
Congrès de la société française de thermique (nantes, France, 29/05/2001–31/05/2001)

Résumé

modelisation thermique pacvd plan d'expériences numériques
L’objectif de cette étude est d’établir un modèle thermique dans une géométrie tridimensionnelle afin d’estimer la température de surface de matériaux à traiter par PACVD. Cette technique utilisée pour le traitement de surface d’antagonistes métalliques est brièvement présentée. Une démarche visant à déterminer les paramètres incertains (qui invalident le modèle) est exposée. Enfin, des perspectives relatives à cette étude préliminaire sont évoquées (métrologie, identification).

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