- Titre
- Calibration of the PEC Etching Method of GaN
- Créateurs - sans rôle
- Renata Lewandowska - Groupe d'étude des semiconducteursJ.L. Weyher - Institute of High Pressure PhysicsM. Albrecht - Leibniz-Institut für KristallzüchtungLeszek Konczewicz - Groupe d'étude des semiconducteursBolesław Łucznik - Institute of High Pressure Physics
- Colloque
- EXMATEC (Cadiz, Spain, 14/05/2006–17/05/2006)
- Identifiants
- 9936780309311
- Unité académique
- Université de Montpellier
- Langue
- English
- Type de ressource
- Conference proceeding
- Champs locaux
- hal-00401351
Acte de colloque
Calibration of the PEC Etching Method of GaN
EXMATEC (Cadiz, Spain, 14/05/2006–17/05/2006)
Indicateurs
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