- Titre
- Benefit on Interconnect Performance of a Relaxed Wire Density in a 45 nm Node of the Back End of Line
- Créateurs - sans rôle
- Sébastien de Rivaz - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et PhotoniqueAlexis Farcy - STMicroelectronics [Crolles]Denis Deschacht - Conception et Test de Systèmes MICroélectroniquesThierry Lacrevaz - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et PhotoniqueBernard Flechet - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique
- Colloque
- IEEE 14th Workshop on Signal Propagation on Interconnects (Germany)
- Identifiants
- 9945510009311
- Unité académique
- Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier - LIRMM
- Langue
- English
- Type de ressource
- Conference proceeding
- Champs locaux
- lirmm-00485629
Acte de colloque
Benefit on Interconnect Performance of a Relaxed Wire Density in a 45 nm Node of the Back End of Line
IEEE 14th Workshop on Signal Propagation on Interconnects (Germany)
2010
Indicateurs
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