- Titre
- An innovative methodology for the determination of an apparent kinetic model for the chemical vapor deposition of multifunctional SiOxNy films
- Créateurs - sans rôle
- Konstantina Christina Topka - Laboratoire de Génie ChimiqueLaura Decosterd - Centre Interuniversitaire de Recherche et d’Ingénierie des MatériauxMarie-Joëlle Menu - Centre Interuniversitaire de Recherche et d’Ingénierie des MatériauxHugues Vergnes - Laboratoire de Génie ChimiqueConstantin Vahlas - Centre Interuniversitaire de Recherche et d’Ingénierie des MatériauxBrigitte Caussat - Laboratoire de Génie Chimique
- Colloque
- CHISA (Prague (Czech Republic), Czech Republic, 03/2021–03/2021)
- Identifiants
- 9939922109311
- Unité académique
- Université de Montpellier
- Langue
- English
- Type de ressource
- Conference proceeding
- Champs locaux
- hal-04743540
Acte de colloque
An innovative methodology for the determination of an apparent kinetic model for the chemical vapor deposition of multifunctional SiOxNy films
CHISA (Prague (Czech Republic), Czech Republic, 03/2021–03/2021)
Indicateurs
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