- Titre
- Alpha-Soft Error Rate due to new generations of high-k gate oxides and metal gate electrodes in a 32 nm node
- Créateurs - sans rôle
- M. Gedion - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESFrédéric Wrobel - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESF. Saigné - Université de Montpellier, Institut d'Electronique et des Systèmes - IESR. D. Schrimpf - Vanderbilt University
- Colloque
- RADECS 2011 (Seville, Spain, 2011)
- Identifiants
- 9944345309311
- Unité académique
- Institut d'Electronique et des Systèmes - IES
- Langue
- English
- Type de ressource
- Conference proceeding
- Champs locaux
- hal-01937444
Acte de colloque
Alpha-Soft Error Rate due to new generations of high-k gate oxides and metal gate electrodes in a 32 nm node
RADECS 2011 (Seville, Spain, 2011)
Indicateurs
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